EUV Máscara em branco Tamanho do mercado, participação, crescimento e análise da indústria, por tipo (tipo I, tipo II e outros), por aplicação [semicondutor, IC (circuito integrado) e outros], insights regionais e previsão para 2032

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Visão geral do relatório de mercado em branco da máscara EUV

O tamanho do mercado global de máscara de máscara EUV foi de US $ 0,24 bilhão em 2024 e o mercado deve tocar em 0,83 bilhões em 2032, exibindo uma CAGR de 16,5% durante o período de previsão.

A litografia ultravioleta extrema, muitas vezes conhecida como EUV ou EUVL, é uma técnica de impressão e fabricação de chip que emprega uma variedade de comprimentos de onda extremo ultravioleta (EUV) com uma largura de banda FWHM a 2% de aproximadamente 13,5 nm. Como os espaços em branco da máscara, filmes finos de silicida cromo ou molibdênio são formados em um substrato de quartzo ou vidro de refrigerante. Eles também são revestidos com materiais de resistência fotossensíveis que são sensíveis a vigas de elétrons ou laser e resistem à gravação para produzir padrões de circuito. Os espaços em branco da máscara EUV são substratos de vidro de expansão de baixa térmica com vários filmes de revestimento óptico aplicados às suas superfícies. No substrato, a máscara EUV em branco é composta por 40 a 50 ou mais camadas alternadas de silício e molibdênio.

Impacto Covid-19: O disfuncional pandêmico o crescimento do mercado

A doença covid-19 começou a se espalhar em mais de 180 países em todo o mundo em dezembro de 2019, e a Organização Mundial da Saúde declarou uma crise de saúde. A Covid-19 teve uma influência prejudicial no mercado, interrompendo a cadeia de suprimentos para a fabricação de telefones e telas e reduzindo as vendas de smartphones globalmente devido ao desligamento de certas cidades. O desligamento, que diminuiu a atividade econômica, deve ter um impacto mais forte em um futuro próximo, enquanto os governos ao redor do mundo apertam os controles. Porque para o prolongado bloqueio, as indústrias foram forçadas a fechar temporariamente, causando atrasos na fabricação e remessa de mercadorias.

Últimas tendências

"A inovação do produto para atrair a participação de mercado"

De acordo com o roteiro de litografia ITRS 2001, a litografia extrema ultravioleta (EUV) está sendo desenvolvida para substituir a litografia de 157nm para fabricação comercial de IC no nó de tecnologia de 45 nm. Para satisfazer as necessidades comerciais futuras, as máscaras EUV apresentam numerosas produção e obstáculos técnicos. Apesar de apenas Hoya e AGC estarem atualmente no mercado com recursos de entrega comercial, incluímos amostras de pesquisa ou bens de baixo volume para uso com base no estado atual da tecnologia nesse setor.

Segmentação de mercado em branco da máscara EUV

• Por análise de tipo

Com base no tipo, o mercado de espaços em branco da máscara EUV é subdividido no Tipo I, Tipo II e outros.

O tipo de peça I é a parte principal do segmento de tipo.

• Por análise de aplicação

Com base nas aplicações, o mercado de espaços em branco da máscara EUV é subdividido em semicondutor, IC (circuito integrado) e outros.

O semicondutor da peça é a parte principal do segmento de aplicação.

Fatores determinantes

"O aumento da fabricação e consumo de IC para amplificar a participação de mercado"

Uma máscara EUV em branco está em produção limitada há anos e é um componente crítico em uma fhotomask EUV. O processo de fabricação de uma máscara começa com a criação de uma máscara em branco ou substrato. Depois que um fabricante em branco de máscara cria o espaço em branco, ele é transportado para um fabricante de máscaras, onde a máscara é processada no substrato. Para produzir um chip, é necessária uma máscara de fotomas. Um fabricante de chips cria um IC na fase de design-manufatura, que é então traduzida de um formato de arquivo e criada como uma máscara. A máscara é um modelo mestre para um design de circuito integrado.

A Litografia Ultravioleta Extreme (EUVL) é uma tecnologia de litografia de ponta de vantagem de próxima geração para fabricação de IC no nó de tecnologia de 45 nm e abaixo. Máscaras estruturadas multicamadas e óptica refletida são essenciais na tecnologia EUV. Os absorvedores padronizados são um recurso de máscara EUV que permite o desenvolvimento de recursos de IC durante a exposição.

"O crescente interesse por filmes de várias camadas e materiais aplicados para elevar a participação de mercado"

Atualmente, os requisitos de produção para máscaras EUV são definidos por dois semi -padrões: um para o substrato e outro para filmes de ML (multicamadas). Fornecedores comerciais dos espaços em branco da máscara EUV estão trabalhando nos procedimentos de ML e deposição para filmes reflexivos e absorventes. Uma variedade de padrões de desempenho deve ser atendida para atender aos requisitos de produção. Os fornecedores de espaços em branco da máscara EUV estão aumentando sua produção à medida que o mercado de litografia extrema ultravioleta (EUV) cresce. Além disso, os materiais aplicados estão planejando entrar no mercado.

Fatores de restrição

"Assim, certos problemas com o funcionamento e os altos custos para restringir o crescimento do mercado"

Embora alguns procedimentos de produção de máscara EUV possam ser expandidos das atuais máscaras ópticas, vários desafios adicionais ocorrem como resultado da alteração para um sistema de espelho multicamada reflete com recursos padronizados contra máscaras ópticas padrão. A litografia EUV em 13,4 - 13,5 nm exige desempenho de multicamada em circulação, incluindo refletância de pico, correspondência de comprimento de onda com o sistema óptico e níveis de defeitos muito baixos. Para atender às necessidades da máscara EUV, o material de baixa expansão térmica (LTEM) utilizado como substrato para o refletor multicamada requer níveis de desempenho exigentes, como o coeficiente de expansão térmica (CTE), nivelamento e rugosidade. Ganhos de desempenho de várias ordens de magnitude. Outras dinâmicas estão em ação aqui. Existe uma possível escassez de oferta no mercado para espaços em branco de máscara EUV de baixo defeito-e altos custos. Uma máscara EUV em branco com especificações mais rígidas pode custar mais de US $ 100.000. Assim, as questões que estão sendo destacadas ao longo do processo e o alto custo para impedir o crescimento do mercado da EUV Mask Blanks.

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Máscara EUV Blanks Market Regional Insights

"Região da Ásia-Pacífico para liderar com a presença de players-chave e produção de múltiplos modos"

A economia de nações importantes como o Japão e a China está se expandindo, o que está aumentando a renda disponível do consumidor. Consequentemente, estamos nos movendo na direção de adotar dispositivos tecnológicos de ponta, impulsionando o mercado da região para os espaços em branco da máscara EUV. Além disso, as empresas chinesas estão trabalhando rapidamente para estabelecer enormes instalações de produção para produzir espaços em branco em massa. Os dois principais fabricantes de espaços em branco da máscara EUV, AGC e Hoya, estão aumentando a capacidade desses componentes cruciais usados ​​em máscaras de fotomas EUV. O substrato para uma máscara de fotomas é um branco de máscara. Enquanto isso, a Applied Materials fez apresentações sobre seus esforços e entrada potencial no mercado em branco da máscara EUV em vários eventos recentes. Aplicado está trabalhando nos espaços em branco da próxima geração. A demanda, portanto, alimentará a expansão da participação de mercado em branco da máscara EUV na área.

Principais participantes do setor

"Os participantes proeminentes que contribuem no crescimento do mercado"

O relatório abrange as informações sobre as perspectivas de avanço com novas invenções e análise SWOT. A situação dos elementos do mercado, com as áreas de desenvolvimento do mercado nos próximos anos.

Lista das principais empresas de Blanks de máscara EUV

• AGC Inc (Japan)
• Hoya (Japan)
• S&S Tech (South Korea)
• Applied Materials (U.S.A)
• Photronics Inc (U.K).

Cobertura do relatório

O relatório examina elementos que afetam os lados da demanda e da oferta e estima as forças dinâmicas do mercado para o período de previsão. O relatório oferece motoristas, restrições e tendências futuras. Após avaliar fatores de mercado governamentais, financeiros e técnicos, o relatório fornece uma análise exaustiva de pragas e SWOT para regiões. A pesquisa está sujeita a alteração se os principais participantes e a provável análise da dinâmica do mercado mudarem. A informação é uma estimativa aproximada dos fatores mencionados, levados em consideração após pesquisas completas.